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扩散炉温度控制系统

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用 途:
    本设备主要用于8英寸硅片以下太阳能器件制造中的扩散、氧化工艺;也可用于半导体器件制造中的扩散、氧化、退火及合金工艺,同时还适用于对其他材料的特殊热处理!

课 题:
    产品亮点
 1.唯一能适应高阻高效和变浓度扩散工艺的国产设备;
 2.领先国内同行的实际扩散均匀性;
 3.扩散综合使用成本较上一代设备降低20%以上;
 4.单位综合能耗下降20%以上;
    5.设备有效工作时间较其他国产设备高5%以上。

解决方案:
    使用本公司的二次PID级联控制器和带有软启动功能的SCR电力调整器可将炉内温度进行高精度控制。

本方案使用者:

 

          
 

相关产品

  1、WCL温控器
  2、SCR电力调整器

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